Die Mitglieder der Fachgruppe kommen aus der Halbleiterindustrie, von Anlagenherstellern und von Forschungseinrichtungen.

Die Nutzergruppe Ionenimplantation wurde im Jahre 1987 von Hans Glawischnig (Siemens AG) und Heiner Ryssel (Fraunhofer-Institut f眉r Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie, Erlangen und Lehrstuhl f眉r Elektronische Bauelemente, Universit盲t Erlangen-N眉rnberg) nach dem Vorbild der GSVIUG (Greater Silicon Valley Ion Implant User Group) gegr眉ndet.

• Die Veranstaltungen der Nutzergruppe Ionenimplantation werden gemeinsam von der ITG-Fachgruppe 8.1.1 und der GMM-Fachgruppe 1.2.2 organisiert.
• Aus der Nutzergruppe Ionenimplantation ging die Nutzergruppe Hei脽prozesse und RTP hervor. Seither werden die Treffen der beiden Gruppen an zwei aufeinander folgenden Tagen durchgef眉hrt. Am Nachmittag des ersten Tages findet das Nutzertreffen Hei脽prozesse und RTP, am zweiten Tag das Nutzertreffen Ionenimplantation statt.

N盲here Informationen zu den aktuellen und vergangenen Treffen sind unter diesem Link zu finden.