Die Fachgruppe Nassprozesse

adressiert das Arbeitsgebiet der nasschemischen Prozessierung von Siliziumwafern und anderen, halbleiterkompatiblen Substraten. Themenschwerpunkte sind zun盲chst klassische Prozesse wie Substratreinigung und Nass盲tzprozesse.

Spezielle Anwendungen, wie z.B. die Hydrophylisierung von Waferoberfl盲chen f眉r das Waferbonden erg盲nzen den Arbeitsinhalt. Nicht zuletzt ordnen sich auch Prozesse der galvanischen Schichtabscheidung in dieses Gebiet ein.

Die Fachgruppe Nassprozesse versteht sich als Plattform f眉r den Austausch von Informationen und Erfahrungen, insbesondere zwischen den Anwendern aus der produzierenden Industrie, den Mitarbeitern aus Forschung und Entwicklung und den Anbietern technologischer Ausr眉stungen und Materialien.

Speziell dazu finden zweimal im Jahr sogenannte Europ盲ische Nutzertreffen statt. Der jeweilige Veranstaltungsort wandert dabei durch ganz Europa. Aufgrund der inhaltlichen Verwandtschaft mit den Prozessen der Oberfl盲chenbearbeitung werden diese Nutzertreffen gemeinsam mit der Fachgruppe Planarisierung als zweit盲gige Veranstaltung durchgef眉hrt.

Die Fachgruppe Nassprozesse wurde 2013 von Dr. Gerfried Zwicker (FG Planarisierung) und Dr. Knut Gottfried ins Leben gerufen und wird seitdem von Dr. Knut Gottfried und Frau M.Sc. Romy Junghans betreut.

N盲here Informationen zu aktuellen und vergangenen Treffen finden sich unter dem hinterlegten Link.